用户中心:
产品展示
  • [单双室CVD设备] P3系列 单室PECVD

    ¥0.00¥0.00

    本系列产品为单室PECVD(等离子体增强化学气相沉积)设备,采用平板电极射频耦合方式。可以用于沉积SI3N4,SIO2,非晶硅,P、I、N结等

    ......
  • [单双室CVD设备] P7系列 双室PECVD

    ¥0.00¥0.00

    本系列产品为双室PECVD(等离子体增强化学气相沉积)设备,采用平板电极射频耦合方式。可以用于沉积SI3N4,SIO2,非晶硅,P、I、N结等。

    ......
  • [单双室CVD设备] P34系列 电感式PECVD

    ¥0.00¥0.00

           该产品是用在真空状态下,通过高压电极提供电能,对各种材料进行等离子体处理设备。设备由石英管真空腔体,机械泵系统,加热炉系统,高压清洗系统,工作台组成。

    ......
  • [单双室CVD设备] M12系列 双室MOCVD设备

    ¥0.00¥0.00

    本设备由MOCVD沉积室,进出样品室,自动样品传递杆,工作台,特气柜组成。可用MOCVD方式沉积ZnO。采用由下向上喷淋方式。气盒优化,专利设计。

    ......
  • [单双室CVD设备] M45系列 单室MOCVD

    ¥0.00¥0.00

    本设备由MOCVD沉积室,工作台,特气柜组成。可用MOCVD方式沉积ZnO。采用由下向上喷淋方式。气盒优化,专利设计。

    ......