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  • [单双室磁控溅射] C10系列 矩形靶直线磁控溅射设备

    ¥0.00¥0.00

           该设备用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。设备整体由卧式矩形磁控溅射室,工作台,电控柜,真空获得,真空测量系统组成。采用

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  • [单双室磁控溅射] C19系列 D型单靶磁控溅射设备

    ¥0.00¥0.00

    本设备为D型真空室磁控溅射,前开门结构。可以安装各种磁控溅射靶。用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。

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  • [单双室磁控溅射] C29系列 矩形靶圆室磁控溅射设备

    ¥0.00¥0.00

    该设备为立式矩形靶设备。样品在中心旋转。用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。设备整体由立式矩形磁控溅射室,工作台,电控柜,真空获得,真空测量系统组成。 

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  • [单双室磁控溅射] C31系列 丝材磁控溅射设备

    ¥0.00¥0.00

    本设备是一台高真空纤维卷绕磁控镀膜机。主要由真空放丝室、真空收丝室及真空镀膜室、单套高真空系统、卷绕系统、非平衡磁控溅射对靶、直流磁控溅射电源、气路系统、电控柜等组成。可实现在多种纤维丝材上的真空卷绕镀膜,如各种金属丝、

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  • [单双室磁控溅射] C39系列 双室圆靶溅射磁控溅射设备

    ¥0.00¥0.00

    该设备用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。

           本设备主要由主溅射真空室,磁控溅射靶,基片水冷加热台,进出样室,样品库,反溅清

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  • [单双室磁控溅射] C57系列 三室磁控溅射设备

    ¥0.00¥0.00

           本设备由三个真空室组成,从左到右依次为金属磁控溅射室,氧化物磁控溅射室,进样室和传递杆。

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