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C60系列 高四靶磁控溅射设备
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C60系列 高四靶磁控溅射设备

该设备是一台高真空单室高位四靶(永磁靶)(其中一个可溅射磁性材料)磁控溅射镀膜设备。为镀制铁磁材料(如:铁、钴、镍等),配备可镀铁磁材料的磁控溅射靶。适用于镀制各种单层膜、多层膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。

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商品描述

该设备是一台高真空单室高位四靶(永磁靶)(其中一个可溅射磁性材料)磁控溅射镀膜设备。为镀制铁磁材料(如:铁、钴、镍等),配备可镀铁磁材料的磁控溅射靶。适用于镀制各种单层膜、多层膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。