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C62系列 标准三靶磁控溅射设备
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C62系列 标准三靶磁控溅射设备

该设备是一台标准三靶磁控溅射设备，配置磁控溅射靶三只，采用由下向上溅射方式。 适用于镀制各种单层膜、多层膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。

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该设备是一台标准三靶磁控溅射设备，配置磁控溅射靶三只，采用由下向上溅射方式。 适用于镀制各种单层膜、多层膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。