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C19系列 D型单靶磁控溅射设备
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C19系列 D型单靶磁控溅射设备

本设备为D型真空室磁控溅射,前开门结构。可以安装各种磁控溅射靶。用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。

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商品描述

本设备为D型真空室磁控溅射,前开门结构。可以安装各种磁控溅射靶。用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。