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C19系列 D型单靶磁控溅射设备
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C19系列 D型单靶磁控溅射设备

本设备为D型真空室磁控溅射，前开门结构。可以安装各种磁控溅射靶。用于纳米级单层及多层功能膜，硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜等新型薄膜材料的制备。

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商品描述

本设备为D型真空室磁控溅射，前开门结构。可以安装各种磁控溅射靶。用于纳米级单层及多层功能膜，硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜等新型薄膜材料的制备。