该设备用于纳米级单层及多层功能膜，硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜等新型薄膜材料的制备。设备整体由卧式矩形磁控溅射室，工作台，电控柜，真空获得，真空测量系统组成。采用全金属密封，除门和靶处其余密封口为刀口密封，所有电极采用陶封技术，加热车运动采用不锈钢链条传动方式。
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