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C39系列 双室圆靶溅射磁控溅射设备
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C39系列 双室圆靶溅射磁控溅射设备

该设备用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。

       本设备主要由主溅射真空室,磁控溅射靶,基片水冷加热台,进出样室,样品库,反溅清洗靶,自动磁力送样机构,工作台,真空测量与电控系统组成。

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商品描述

该设备用于纳米级单层及多层功能膜,硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜等新型薄膜材料的制备。

       本设备主要由主溅射真空室,磁控溅射靶,基片水冷加热台,进出样室,样品库,反溅清洗靶,自动磁力送样机构,工作台,真空测量与电控系统组成。