本设备是一台电子束镀膜设备，设备主要由电子束镀膜系统和电气控制系统组成，该系统主要用于各种难熔金属薄膜、绝缘膜、介质膜、半导体膜等单层/多层膜及铁电薄膜的制备,也可用于制备合金薄膜、化合物混合膜及薄膜掺杂等。
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