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R197系列 双室高低温多源共沉积镀膜设备
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R197系列 双室高低温多源共沉积镀膜设备

本设备共由三部分组成,第一部分为QHV-R964Y+4J有机蒸镀设备,第二部分为QHV-R966J+2Y钙钛矿蒸镀设备,第三部分为2200+1000+1800手套箱。


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商品描述

本设备共由三部分组成,第一部分为QHV-R964Y+4J有机蒸镀设备,第二部分为QHV-R966J+2Y钙钛矿蒸镀设备,第三部分为2200+1000+1800手套箱。



分类序号主要技术参数
系统的构成1本设备为两个独立控制的蒸发腔室(A腔、B腔)和手套箱组成。真空室内外矩形开门方式,内门为隐藏式滑门。内外门上均安装有带挡板的观察窗。 
2每个腔室:可更换掩膜版12套,每个掩模版包含162.5*62.5px大小的样品区域;有机石英坩埚3mL×20;金属陶瓷钽炉坩埚3mL×30;
3真空获得系统2套:每套主要包括涡轮分子泵1台,机械泵1台,气动插板阀1台,气动CF35角阀1只,手动放气阀1只,KF40电磁压差阀1只,KF40气动截止阀1只
4配件:空气压缩机1台:220V,排气量40L/min;冷水机1套:温度范围至少涵盖5~35℃,流量10L/min,水箱容量8L;低温冷水机1套:温度范围涵盖-20~35℃,流量10L/min,水箱容量5L
真空指标5极限真空≤4×10-5Pa;漏率≤6.7×10-8Pa·L/S;工作真空≤5×10-4Pa,从大气到工作真空时间小于30分钟(新设备冷态下,连接手套箱)。系统保压:系统抽到4×10-5Pa后,停泵关机12小时后,系统真空度保持状态≤2Pa。
样品尺寸6样品尺寸134×134mm,放1625×25mm样品;样品托尺寸:146×146mm,样品架与源表面距离340mmA腔蒸发台源心径φ200mmB腔蒸发台源心径φ220mm
样品架配置7电动旋转,旋转定位精度不超过0.1°。样品挡板采用气动水平旋开方式。一套涵盖95到-20摄氏度可调。一套涵盖20摄氏度到400摄氏度可调,
蒸发源配置8A腔室:金属源4套,有机源4套。B腔室:有机源2套,无机源6套。。每个蒸发位含独立电控挡板
膜厚系统9每个真空腔含有水冷膜厚探头4只,每个腔室的膜厚仪为四通道。
加热电源配置10A腔:无机电源2台,每个有机舟位由一个电源单独控制。B腔:无机电源2台,每个有机舟位由一个电源单独控制。  
在线掩膜版库11A腔含有1套在线掩膜板库,为6工位,可以实现不破真空换掩膜版。 
真空测量系统12A腔采用国产电阻+冷规复合真空测量方式。B腔配置的数显复合真空计。
膜厚及均一性13膜厚均匀性100nm≤±3%。金属源:采用3cc的陶瓷蒸发舟,以铝为标准,0.5-10Å/s稳定可控,蒸镀速率波动≤±0.1Å/S,均匀性优于±3%.有机源:采用3cc的高口石英坩埚,以NPB或Alq3为标准,蒸镀速率0.1-10Å/s稳定可控,蒸镀速率波动≤±0.1Å/S。
手套箱配置14手套箱根据需要定制。
安全措施15具有手套箱防抽爆功能,安装有信号检测和程序互锁部件,现场调试试验。
自动控制16具有自动抽真空,自动放气功能。具有自动镀膜功能,金属源包含手动/速率反馈/功率控制三种方式。有机源包含温度控制/功率控制/速率反馈控制三种方式。