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P3系列 单室PECVD
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P3系列 单室PECVD

本系列产品为单室PECVD(等离子体增强化学气相沉积)设备,采用平板电极射频耦合方式。可以用于沉积SI3N4,SIO2,非晶硅,P、I、N结等

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本系列产品为单室PECVD(等离子体增强化学气相沉积)设备,采用平板电极射频耦合方式。可以用于沉积SI3N4,SIO2,非晶硅,P、I、N结等




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