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P3系列 单室PECVD
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P3系列 单室PECVD

本系列产品为单室PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，采用平板电极射频耦合方式。可以用于沉积SI3N4，SIO2，非晶硅，P、I、N结等。

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本系列产品为单室PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，采用平板电极射频耦合方式。可以用于沉积SI3N4，SIO2，非晶硅，P、I、N结等。